隨著企業對半導體需求的日益迫切，半導體企業如雨后春筍般迅速崛起，隨著電子半導體行業蓬勃發展的同時，電子半導體廢水排放問題也在不斷顯現。半導體企業排放的廢水中含有大量金屬物質，具有一定的腐蝕性，這類廢水之所以難處理在于其中含有大量鎘離子和氰離子，處理過程人工投入成本高，處理難度大且不徹底，所以尋求高效的廢水處理技術至關重要。

　　半導體廢水中的污染因子主要包括鹽分、COD、總氮等物，可以分為高鹽廢水、高濃度有機廢水和低濃度有機廢水等。高鹽廢水需要進行脫鹽處理后才能進行后續的生化處理；低濃度廢水和經過預處理的高濃度廢水和高鹽廢水混雜后進行生化處理，經過生化處理后的廢水還需要進行深度處理后確保達標后才可以進行排放。

　　預處理工藝

　　（1）氣浮工藝

　　氣浮池主要應用少量微氣泡撲捕捉吸附渺小顆粒膠黏物使之上浮，達到固液分離的結果。經過氣浮池處理后的廢水COD的去除率可以達到10%。

　　（2）鐵碳微電解+Fenton氧化

　　鐵碳微電解反應重生態具有很高的活性，可以和廢水中多種組分發生氧化復原反應，結合Fenton試劑可以提高有機物的去除效果，廢水COD去除率可以達到60%。

　　隨著電子信息產業的迅速拓展，半導體行業的需求量越來越大，廢水處理也日益重要，廢水零排放作為環保行業的主流潮流和趨勢，任何一家企業責無旁貸，應力求在技術上尋求突破，促進經濟綠色可持續發展。